| Anlaufschutz EN-20 | Glanzzusatz A4 |
vermeidet Anlauffarben beim Tempern |
frei von Blei und Kadmium, separat dosierbar
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Anwendung beim Tempern ohne Schutzgas, z.B. 400 °C |
reduziert Korngrenzendichte, dadurch bessere Duktilität
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die chemisch Nickel Schicht bleibt wie abgeschieden |
erzeugt helle, "weiß"- glänzende Schichten
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| Beschleuniger EN | Aktivierung EN |
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steigert
die Abscheidegeschwindigkeit um 2 bis 5 µm/h |
sorgt
für erste, gleichmäßige Bekeimung
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in
aufgesalzten und kontaminierten Bädern |
aktiviert
Abscheidung an kritischen Stellen
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| Netzmittel EN-2 | Netzmittel EN-40 |
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gegen
Poren |
erzeugt Schaumfilm, setzt Oberflächenspannung herab |
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für
geschliffene, gedrehte und polierte Oberflächen |
verhindert Geruchsbelästigung und Emissionen |
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geeignet
für Messing, Stahl, Aluminium, Magnesium |
gut abspülbar, noch effizienter, weil frei von Texapon |
| Feinkornzusatz EN | Verfahren HP-6 |
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reduziert
innere Spannungen abgeschiedener Schichten |
vierfache
Standzeit - blei- und kadmiumfrei
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wirkt
aufhellend |
>20 MTO auf
Basis 5 g/l Ni, im Druckspannungsbereich !
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extrem
reduzierter Aufsalzungseffekt - sulfatfrei
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| Verfahren EN-1 |
1 Ansatzlösung, high-phos, 10 - 13 % P
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blei- und kadmiumfrei |
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auf Basis 6 g/l Ni klassisch > 7 MTO |
Verfahren HP-7 |
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harte Schichten |
blei- und kadmiumfrei |
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1 Ansatzlösung,
schnellabscheidend, 5 - 9 % P |
>10 MTO auf
Basis 6 g/l Ni |
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extrem
reduzierter Aufsalzungseffekt - sulfatfrei |
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| Verfahren EN-2 |
1 Ansatzlösung, high-phos, 10 - 13 % P |
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blei- und kadmiumfrei |
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auf Basis 6 g/l Ni klassisch > 7 MTO |
Verfahren HP-8 |
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großer
Literbelastungsbereich |
auf Basis 5 g/l Ni klassisch > 7 MTO |
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1 Ansatzlösung, schnellabscheidend, 5 - 9 % P |
sehr gute Duktilität |
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auch als
pH-selbstregulierende Version |
großer Literbelastungsbereich |
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1 Ansatzlösung, high-phos, 10 - 13 % P |
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